Wafer in zaffiro da 12 pollici per la produzione di dispositivi LED e GaN

I wafer di zaffiro da 12 pollici sono substrati di zaffiro monocristallino di diametro ultra grande prodotti per applicazioni avanzate di semiconduttori e optoelettronica. Rispetto ai tradizionali wafer in zaffiro da 2-6 pollici, i wafer in zaffiro da 12 pollici migliorano significativamente l'efficienza produttiva, l'utilizzo dei materiali e l'uniformità dei dispositivi, rendendoli la scelta ideale per i LED di nuova generazione, l'elettronica di potenza e le tecnologie di packaging avanzate.

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Panoramica del prodotto

I wafer di zaffiro da 12 pollici sono substrati di zaffiro monocristallino di diametro ultra grande prodotti per applicazioni avanzate di semiconduttori e optoelettronica. Rispetto ai tradizionali wafer in zaffiro da 2-6 pollici, i wafer in zaffiro da 12 pollici migliorano significativamente l'efficienza produttiva, l'utilizzo dei materiali e l'uniformità dei dispositivi, rendendoli la scelta ideale per i LED di nuova generazione, l'elettronica di potenza e le tecnologie di packaging avanzate.

I nostri wafer di zaffiro da 12 pollici sono prodotti da cristalli singoli di Al₂O₃ di elevata purezza cresciuti con metodi avanzati di crescita dei cristalli, seguiti da taglio di precisione, lappatura, lucidatura e rigoroso controllo di qualità. I wafer presentano un'eccellente planarità superficiale, una bassa densità di difetti e un'elevata stabilità ottica e meccanica, soddisfacendo i severi requisiti della fabbricazione di dispositivi di grandi dimensioni.


Caratteristiche del materiale

Lo zaffiro (ossido di alluminio monocristallino, Al₂O₃) è noto per le sue eccezionali proprietà fisiche e chimiche. I wafer di zaffiro da 12 pollici ereditano tutti i vantaggi del materiale zaffiro, pur offrendo una superficie utilizzabile molto più ampia.

Le caratteristiche principali del materiale includono:

  • Durezza e resistenza all'usura estremamente elevate

  • Eccellente stabilità termica ed elevato punto di fusione

  • Resistenza chimica superiore ad acidi e alcali

  • Elevata trasparenza ottica dalle lunghezze d'onda UV a quelle IR

  • Eccellenti proprietà di isolamento elettrico

Queste caratteristiche rendono i wafer in zaffiro da 12 pollici adatti ad ambienti di lavorazione difficili e a processi di produzione di semiconduttori ad alta temperatura.


Processo di produzione

La produzione di wafer di zaffiro da 12 pollici richiede tecnologie avanzate di crescita del cristallo e di lavorazione ultraprecisa. Il tipico processo di produzione comprende:

  1. Crescita del cristallo singolo
    I cristalli di zaffiro di elevata purezza sono coltivati con metodi avanzati come il KY o altre tecnologie di crescita di cristalli di grande diametro, che garantiscono un orientamento uniforme del cristallo e un basso stress interno.

  2. Modellatura e affettatura dei cristalli
    Il lingotto di zaffiro viene modellato con precisione e tagliato in wafer da 12 pollici utilizzando apparecchiature di taglio ad alta precisione per ridurre al minimo i danni alla superficie.

  3. Lappatura e lucidatura
    I processi di lappatura e lucidatura chimico-meccanica (CMP) a più fasi vengono applicati per ottenere un'eccellente rugosità superficiale, planarità e uniformità di spessore.

  4. Pulizia e ispezione
    Ogni wafer di zaffiro da 12 pollici viene sottoposto a un'accurata pulizia e a un'ispezione rigorosa, che comprende la qualità della superficie, il TTV, l'arco, la curvatura e l'analisi dei difetti.


Applicazioni

I wafer di zaffiro da 12 pollici sono ampiamente utilizzati nelle tecnologie avanzate ed emergenti, tra cui:

  • Substrati LED ad alta potenza e alta luminosità

  • Dispositivi di potenza e dispositivi RF basati su GaN

  • Supporti per apparecchiature a semiconduttore e substrati isolanti

  • Finestre ottiche e componenti ottici a grande superficie

  • Imballaggi avanzati per semiconduttori e supporti di processo speciali

L'ampio diametro consente una maggiore produttività e una migliore efficienza dei costi nella produzione di massa.


Vantaggi dei wafer di zaffiro da 12 pollici

  • Area utilizzabile più ampia per una maggiore produzione di dispositivi per wafer

  • Maggiore coerenza e uniformità del processo

  • Riduzione del costo per dispositivo nella produzione di grandi volumi

  • Eccellente resistenza meccanica per la movimentazione di grandi dimensioni

  • Specifiche personalizzabili per diverse applicazioni


Opzioni di personalizzazione

Offriamo una personalizzazione flessibile per i wafer di zaffiro da 12 pollici, tra cui:

  • Orientamento del cristallo (piano C, piano A, piano R, ecc.)

  • Tolleranza su spessore e diametro

  • Lucidatura su uno o due lati

  • Profilo dei bordi e design degli smussi

  • Requisiti di rugosità e planarità della superficie

Parametro Specifiche Note
Diametro del wafer 12 pollici (300 mm) Wafer standard di grande diametro
Materiale Zaffiro a cristallo singolo (Al₂O₃) Alta purezza, grado elettronico/ottico
Orientamento del cristallo Piano C (0001), piano A (11-20), piano R (1-102) Orientamenti opzionali disponibili
Spessore 430-500 μm Spessore personalizzato disponibile su richiesta
Tolleranza di spessore ±10 μm Tolleranza ridotta per dispositivi avanzati
Variazione dello spessore totale (TTV) ≤10 μm Assicura una lavorazione uniforme su tutto il wafer
Arco ≤50 μm Misurato sull'intero wafer
Ordito ≤50 μm Misurato sull'intero wafer
Finitura superficiale Lucidato su un solo lato (SSP) / Lucidato su due lati (DSP) Superficie di alta qualità ottica
Rugosità superficiale (Ra) ≤0,5 nm (lucidato) Levigatezza a livello atomico per la crescita epitassiale
Profilo del bordo Smusso / Bordo arrotondato Per evitare di scheggiarsi durante la manipolazione
Precisione di orientamento ±0.5° Assicura la corretta crescita dello strato epitassiale
Densità dei difetti <10 cm-² Misurato tramite ispezione ottica
Piattezza ≤2 μm / 100 mm Assicura una litografia e una crescita epitassiale uniformi
Pulizia Classe 100 - Classe 1000 Compatibile con la camera bianca
Trasmissione ottica >85% (UV-IR) Dipende dalla lunghezza d'onda e dallo spessore

12 pollici Sapphire Wafer FAQ

D1: Qual è lo spessore standard di un wafer di zaffiro da 12 pollici?
R: Lo spessore standard va da 430 μm a 500 μm. È possibile produrre anche spessori personalizzati in base alle esigenze del cliente.

D2: Quali orientamenti del cristallo sono disponibili per i wafer di zaffiro da 12 pollici?
R: Offriamo gli orientamenti del piano C (0001), A (11-20) e R (1-102). Altri orientamenti possono essere personalizzati in base ai requisiti specifici del dispositivo.

D3: Qual è la variazione di spessore totale (TTV) del wafer?
R: I nostri wafer di zaffiro da 12 pollici hanno in genere un TTV ≤10 μm, che garantisce l'uniformità sull'intera superficie del wafer per la produzione di dispositivi di alta qualità.

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